Molecular dynamics simulation of amorphous silicon sputtering by Ar+ ions

  1. Rubio, J.E.
  2. Marqués, L.A.
  3. Jaraíz, M.
  4. Bailón, L.A.
  5. Barbolla, J.
Revista:
Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B

ISSN: 0168-583X

Any de publicació: 1995

Volum: 102

Número: 1-4

Pàgines: 301-304

Tipus: Article

DOI: 10.1016/0168-583X(95)80157-H GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus