Use of transient enhanced diffusion to tailor boron out-diffusion

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Revista:
IEEE Transactions on Electron Devices

ISSN: 0018-9383

Año de publicación: 2000

Volumen: 47

Número: 7

Páginas: 1401-1405

Tipo: Artículo

DOI: 10.1109/16.848283 GOOGLE SCHOLAR
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