Boron diffusion in amorphous silicon and the role of fluorine

  1. Duffy, R.
  2. Venezia, V.C.
  3. Heringa, A.
  4. Pawlak, B.J.
  5. Hopstaken, M.J.P.
  6. Maas, G.C.J.
  7. Tamminga, Y.
  8. Dao, T.
  9. Roozeboom, F.
  10. Pelaz, L.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Any de publicació: 2004

Volum: 84

Número: 21

Pàgines: 4283-4285

Tipus: Article

DOI: 10.1063/1.1751225 GOOGLE SCHOLAR