Boron diffusion in amorphous silicon and the role of fluorine

  1. Duffy, R.
  2. Venezia, V.C.
  3. Heringa, A.
  4. Pawlak, B.J.
  5. Hopstaken, M.J.P.
  6. Maas, G.C.J.
  7. Tamminga, Y.
  8. Dao, T.
  9. Roozeboom, F.
  10. Pelaz, L.
Aldizkaria:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Argitalpen urtea: 2004

Alea: 84

Zenbakia: 21

Orrialdeak: 4283-4285

Mota: Artikulua

DOI: 10.1063/1.1751225 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus