Boron diffusion in amorphous silicon and the role of fluorine

  1. Duffy, R.
  2. Venezia, V.C.
  3. Heringa, A.
  4. Pawlak, B.J.
  5. Hopstaken, M.J.P.
  6. Maas, G.C.J.
  7. Tamminga, Y.
  8. Dao, T.
  9. Roozeboom, F.
  10. Pelaz, L.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Ano de publicación: 2004

Volume: 84

Número: 21

Páxinas: 4283-4285

Tipo: Artigo

DOI: 10.1063/1.1751225 GOOGLE SCHOLAR