Comprehensive modeling of ion-implant amorphization in silicon

  1. Mok, K.R.C.
  2. Jaraiz, M.
  3. Martin-Bragado, I.
  4. Rubio, J.E.
  5. Castrillo, P.
  6. Pinacho, R.
  7. Srinivasan, M.P.
  8. Benistant, F.
Revista:
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology

ISSN: 0921-5107

Any de publicació: 2005

Volum: 124-125

Número: SUPPL.

Pàgines: 383-385

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/J.MSEB.2005.08.026 GOOGLE SCHOLAR

Objectius de Desenvolupament Sostenible

Font de les dades: Scopus