Comprehensive modeling of ion-implant amorphization in silicon
- Mok, K.R.C.
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- Castrillo, P.
- Pinacho, R.
- Srinivasan, M.P.
- Benistant, F.
ISSN: 0921-5107
Datum der Publikation: 2005
Ausgabe: 124-125
Nummer: SUPPL.
Seiten: 383-385
Art: Konferenz-Beitrag