Atomistic modeling of dopant implantation, diffusion, and activation

  1. Aboy, M.
  2. Lopez, P.
  3. Marques, L.A.
  4. L Pelaz
Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

ISSN: 1071-1023

Año de publicación: 2006

Volumen: 24

Número: 5

Páginas: 2432-2436

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.2348726 GOOGLE SCHOLAR
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