Atomistic modeling of defect diffusion and interdiffusion in SiGe heterostructures

  1. Castrillo, P.
  2. Jaraiz, M.
  3. Pinacho, R.
  4. Rubio, J.E.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 2010

Ausgabe: 518

Nummer: 9

Seiten: 2448-2453

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.TSF.2009.10.113 GOOGLE SCHOLAR
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