Atomistic modeling of defect diffusion and interdiffusion in SiGe heterostructures

  1. Castrillo, P.
  2. Jaraiz, M.
  3. Pinacho, R.
  4. Rubio, J.E.
Aldizkaria:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Argitalpen urtea: 2010

Alea: 518

Zenbakia: 9

Orrialdeak: 2448-2453

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/J.TSF.2009.10.113 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus