Process modeling of chemical and stress effects in SiGe

  1. Zographos, N.
  2. Zechner, C.
  3. Castrillo, P.
  4. Martin-Bragado, I.
Actas:
AIP Conference Proceedings

ISSN: 0094-243X,  1551-7616

ISBN: 9780735411098

Año de publicación: 2012

Volumen: 1496

Páginas: 212-216

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1063/1.4766526 GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: Scopus