2 MeV electron irradiation effects on bulk and interface of atomic layer deposited high-k gate dielectrics on silicon

  1. García, H.
  2. Castán, H.
  3. Dueñas, S.
  4. Bailón, L.
  5. Campabadal, F.
  6. Rafí, J.M.
  7. Zabala, M.
  8. Beldarrain, O.
  9. Ohyama, H.
  10. Takakura, K.
  11. Tsunoda, I.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 2013

Volume: 534

Páxinas: 482-487

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.TSF.2013.02.004 GOOGLE SCHOLAR