Kinetic Monte Carlo simulations of boron activation in implanted Si under laser thermal annealing

  1. Fisicaro, G.
  2. Pelaz, L.
  3. Aboy, M.
  4. Lopez, P.
  5. Italia, M.
  6. Huet, K.
  7. Cristiano, F.
  8. Essa, Z.
  9. Yang, Q.
  10. Bedel-Pereira, E.
  11. Quillec, M.
  12. La Magna, A.
Revista:
Applied Physics Express

ISSN: 1882-0778,  1882-0786

Año de publicación: 2014

Volumen: 7

Número: 2

Tipo: Artículo

DOI: 10.7567/APEX.7.021301 GOOGLE SCHOLAR lock_openUVADOC editor

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