Electrical characterization of atomic-layer-deposited hafnium silicate for alternative gate dielectric application

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
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  6. Ritala, M.
  7. Leskelä, M.
Actas:
2005 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings

ISBN: 9780780388109

Año de publicación: 2005

Volumen: 2005

Páginas: 45-48

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/SCED.2005.1504302 GOOGLE SCHOLAR
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