Comparative Equilibrium Analysis of Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) GaAs Growth Using Trimethylgallium (TMGa) with Arsine or Trimethylarsine (TMAs)

  1. Abril, E.J.
  2. Aguilar, M.
  3. Alonso, A.
  4. Lopez, M.
Revista:
Japanese Journal of Applied Physics

ISSN: 1347-4065,  0021-4922

Ano de publicación: 1992

Volume: 31

Número: 6 R

Páxinas: 1721-1725

Tipo: Artigo

DOI: 10.1143/JJAP.31.1721 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus