Atomic scale simulations of arsenic ion implantation and annealing in silicon
- Caturla, M.-J.
- Diaz de la Rubia, T.
- Jaraiz, M.
- Gilmer, G.H.
Actas:
Materials Research Society Symposium - Proceedings
ISSN: 0272-9172
Ano de publicación: 1996
Volume: 396
Páxinas: 45-50
Tipo: Achega congreso