Dose effects on amorphous silicon sputtering by argon ions: A molecular dynamics simulation

  1. Marqués, L.A.
  2. Rubio, J.E.
  3. Jaraíz, M.
  4. Bailón, L.A.
  5. Barbolla, J.J.
Aldizkaria:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Argitalpen urtea: 1997

Alea: 81

Zenbakia: 3

Orrialdeak: 1488-1494

Mota: Artikulua

DOI: 10.1063/1.363914 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus