Dopant redistribution effects in preamorphized silicon during low temperature annealing

  1. Venezia, V.C.
  2. Duffy, R.
  3. Pelaz, L.
  4. Aboy, M.
  5. Heringa, A.
  6. Griffin, P.B.
  7. Wang, C.C.
  8. Hopstaken, M.J.P.
  9. Tamminga, Y.
  10. Dao, T.
  11. Pawlak, B.J.
  12. Roozeboom, F.
Actes de conférence:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting

ISSN: 0163-1918

Année de publication: 2003

Pages: 489-492

Type: Communication dans un congrès