Boron diffusion in amorphous silicon and the role of fluorine

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Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Año de publicación: 2004

Volumen: 84

Número: 21

Páginas: 4283-4285

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.1751225 GOOGLE SCHOLAR
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