Comparison between the electrical properties of atomic layer deposited thin ZrO2 films processed from cyclopentadienyl precursors

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Gómez, A.
  5. Bailón, L.
  6. Kukli, K.
  7. Niinistö, J.
  8. Ritala, M.
  9. Leskelä, M.
Revista:
Microelectronic Engineering

ISSN: 0167-9317

Any de publicació: 2009

Volum: 86

Número: 7-9

Pàgines: 1689-1691

Tipus: Article

DOI: 10.1016/J.MEE.2009.03.103 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus