Comparison between the electrical properties of atomic layer deposited thin ZrO2 films processed from cyclopentadienyl precursors

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Gómez, A.
  5. Bailón, L.
  6. Kukli, K.
  7. Niinistö, J.
  8. Ritala, M.
  9. Leskelä, M.
Revista:
Microelectronic Engineering

ISSN: 0167-9317

Ano de publicación: 2009

Volume: 86

Número: 7-9

Páxinas: 1689-1691

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.MEE.2009.03.103 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus