Comparison between the electrical properties of atomic layer deposited thin ZrO2 films processed from cyclopentadienyl precursors

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Gómez, A.
  5. Bailón, L.
  6. Kukli, K.
  7. Niinistö, J.
  8. Ritala, M.
  9. Leskelä, M.
Aldizkaria:
Microelectronic Engineering

ISSN: 0167-9317

Argitalpen urtea: 2009

Alea: 86

Zenbakia: 7-9

Orrialdeak: 1689-1691

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/J.MEE.2009.03.103 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus