Comparison between the electrical properties of atomic layer deposited thin ZrO2 films processed from cyclopentadienyl precursors
- Dueñas, S.
- Castán, H.
- García, H.
- Gómez, A.
- Bailón, L.
- Kukli, K.
- Niinistö, J.
- Ritala, M.
- Leskelä, M.
ISSN: 0167-9317
Datum der Publikation: 2009
Ausgabe: 86
Nummer: 7-9
Seiten: 1689-1691
Art: Artikel