Dose effects on amorphous silicon sputtering by argon ions: A molecular dynamics simulation

  1. Marqués, L.A.
  2. Rubio, J.E.
  3. Jaraíz, M.
  4. Bailón, L.A.
  5. Barbolla, J.J.
Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Año de publicación: 1997

Volumen: 81

Número: 3

Páginas: 1488-1494

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.363914 GOOGLE SCHOLAR
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