Electrical characterization of hafnium oxide and hafnium-rich silicate films grown by atomic layer deposition

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Kukli, K.
  6. Aarik, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Revista:
Microelectronics Reliability

ISSN: 0026-2714

Any de publicació: 2005

Volum: 45

Número: 5-6

Pàgines: 949-952

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/J.MICROREL.2004.11.052 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus