Electrical characterization of hafnium oxide and hafnium-rich silicate films grown by atomic layer deposition

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Kukli, K.
  6. Aarik, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Zeitschrift:
Microelectronics Reliability

ISSN: 0026-2714

Datum der Publikation: 2005

Ausgabe: 45

Nummer: 5-6

Seiten: 949-952

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1016/J.MICROREL.2004.11.052 GOOGLE SCHOLAR
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