Electrical characterization of hafnium oxide and hafnium-rich silicate films grown by atomic layer deposition

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Kukli, K.
  6. Aarik, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Aldizkaria:
Microelectronics Reliability

ISSN: 0026-2714

Argitalpen urtea: 2005

Alea: 45

Zenbakia: 5-6

Orrialdeak: 949-952

Mota: Biltzar ekarpena

DOI: 10.1016/J.MICROREL.2004.11.052 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus