Electrical characterization of hafnium oxide and hafnium-rich silicate films grown by atomic layer deposition

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Kukli, K.
  6. Aarik, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Revista:
Microelectronics Reliability

ISSN: 0026-2714

Ano de publicación: 2005

Volume: 45

Número: 5-6

Páxinas: 949-952

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1016/J.MICROREL.2004.11.052 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus