Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Bailón, L.
  5. Kukli, K.
  6. Lu, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Revista:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Any de publicació: 2008

Volum: 354

Número: 2-9

Pàgines: 404-408

Tipus: Article

DOI: 10.1016/J.JNONCRYSOL.2007.07.051 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus