Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Bailón, L.
  5. Kukli, K.
  6. Lu, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Aldizkaria:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Argitalpen urtea: 2008

Alea: 354

Zenbakia: 2-9

Orrialdeak: 404-408

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/J.JNONCRYSOL.2007.07.051 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus