Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films
- Dueñas, S.
- Castán, H.
- García, H.
- Bailón, L.
- Kukli, K.
- Lu, J.
- Ritala, M.
- Leskelä, M.
ISSN: 0022-3093
Année de publication: 2008
Volumen: 354
Número: 2-9
Pages: 404-408
Type: Article