Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Bailón, L.
  5. Kukli, K.
  6. Lu, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Revue:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Année de publication: 2008

Volumen: 354

Número: 2-9

Pages: 404-408

Type: Article

DOI: 10.1016/J.JNONCRYSOL.2007.07.051 GOOGLE SCHOLAR