Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Bailón, L.
  5. Kukli, K.
  6. Lu, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Revista:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Ano de publicación: 2008

Volume: 354

Número: 2-9

Páxinas: 404-408

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.JNONCRYSOL.2007.07.051 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus