Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Bailón, L.
  5. Kukli, K.
  6. Lu, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Zeitschrift:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Datum der Publikation: 2008

Ausgabe: 354

Nummer: 2-9

Seiten: 404-408

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.JNONCRYSOL.2007.07.051 GOOGLE SCHOLAR
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