Comparison between the electrical properties of atomic layer deposited thin ZrO2 films processed from cyclopentadienyl precursors

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Revista:
Microelectronic Engineering

ISSN: 0167-9317

Año de publicación: 2009

Volumen: 86

Número: 7-9

Páginas: 1689-1691

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.MEE.2009.03.103 GOOGLE SCHOLAR
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