Electrical characterization of hafnium oxide and hafnium-rich silicate films grown by atomic layer deposition

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Kukli, K.
  6. Aarik, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Revista:
Microelectronics Reliability

ISSN: 0026-2714

Año de publicación: 2005

Volumen: 45

Número: 5-6

Páginas: 949-952

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/J.MICROREL.2004.11.052 GOOGLE SCHOLAR
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