Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Bailón, L.
  5. Kukli, K.
  6. Lu, J.
  7. Ritala, M.
  8. Leskelä, M.
Revista:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Año de publicación: 2008

Volumen: 354

Número: 2-9

Páginas: 404-408

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.JNONCRYSOL.2007.07.051 GOOGLE SCHOLAR

Objetivos de desarrollo sostenible

Fuente de los datos: Scopus