Selection of post-growth treatment parameters for atomic layer deposition of structurally disordered TiO2 thin films

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Revista:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Año de publicación: 2008

Volumen: 354

Número: 2-9

Páginas: 404-408

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.JNONCRYSOL.2007.07.051 GOOGLE SCHOLAR
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