PROYECTOS NACIONALES
Proxecto PB95-0710
SIMULACION Y CARACTERIZACION DE LA IMPLANTACION IONICA EN SEMICONDUCTORES.
Financiador:
MEC MINISTERIO DE EDUCACIÓN Y CIENCIA
date_range
Duración do 01 de novembro de 1996 ao 01 de novembro de 1999
(36 meses)
euro
152.056,06 EUR
De ámbito Nacional. Con carácter Público.
Investigadores/as
JUAN JOSE
BARBOLLA SANCHO
Responsable
Publicacións relacionadas co proxecto (2)
Mostrar por tipoloxía1999
-
Electrical characterization of He-ion implantation-induced deep levels in p+n InP junctions
Journal of Applied Physics
-
Electrical characterization of a He ion implantation-induced deep level existing in p+n InP junctions
Journal of Applied Physics